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本发明提供了一种溅射装置，包括：基板单元，其包括位于一腔内的基板，靶材沉积在所述基板上；靶单元，其具有由靶材形成的多个靶区及用于向靶区的表面供应电能的阴极板；设置在靶区之间的区域上的多个气体供应口。...
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