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本发明涉及在磁控管溅射反应器中提高等离子体活度的装置，所述磁控管溅射反应器含有要涂层的基片，在此，原等离子体由在基片和附加电极之间施加的ＤＣ或ＡＣ电压建立。通过从ＤＣ或ＡＣ电流或它们的组合加热的热丝出来的电子的热离子发射获得提高的等离子体活...
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