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本发明公开了一种提高膜厚均匀性的离轴溅射控制方法，系用圆形平面靶２溅射薄膜，基板１与靶２偏心放置，两者中的任意一个绕其中心轴自转，薄膜的厚度均匀性由靶基距ｈ和偏心距Ｄ调节，当刻蚀环３的断面为Ｕ形或近似于矩形，并且溅射时气压小于５Ｐａ时，ｈ和...
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