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本发明提供在连续操作模式下用于绝缘材料溅射沉积的设备１，所述设备使用至少两个溅射阳极（１１，１２）和连接到中心抽头导体以维持该靶阴极（４）相对等离子体（２）处于负电位的阴极（４），其中交流电源（１４）驱动每个阳极（１１，１２），交替地在溅射...
该专利属于先进能源工业公司所有，仅供学习研究参考，未经过先进能源工业公司授权不得商用。

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