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本发明公开了一种用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶。它的上、下法兰（１５，１６）内置有相通的冷却水槽（１３，９），进、出水管（１，２）隔断冷却水槽（９）且与其相焊接，上法兰（１５）上端部与靶材安装罩（１２）旋接、腔体中置有磁铁托（１０）和磁铁...该专利属于中国科学院合肥物质科学研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院合肥物质科学研究院授权不得商用。
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本发明公开了一种用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶。它的上、下法兰（１５，１６）内置有相通的冷却水槽（１３，９），进、出水管（１，２）隔断冷却水槽（９）且与其相焊接，上法兰（１５）上端部与靶材安装罩（１２）旋接、腔体中置有磁铁托（１０）和磁铁...