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一种超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶，包括安装法兰（１）和贯穿安装法兰（１）的冷却水管（６），以及与冷却水管（６）相连接的位于靶屏蔽罩（３）内的水冷腔部件（５），所说水冷腔部件（５）内置有软铁和永磁铁，其特征在于：（ａ）所说冷却水管（６）经冷...该专利属于中国科学院合肥物质科学研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院合肥物质科学研究院授权不得商用。
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一种超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶，包括安装法兰（１）和贯穿安装法兰（１）的冷却水管（６），以及与冷却水管（６）相连接的位于靶屏蔽罩（３）内的水冷腔部件（５），所说水冷腔部件（５）内置有软铁和永磁铁，其特征在于：（ａ）所说冷却水管（６）经冷...