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本发明公开一种掩膜版及其制备方法、光刻方法，涉及光掩膜技术领域，以通过单个掩膜板实现两种图案的光刻，从而降低显示基板的制作成本。所述掩膜版包括透光基板，透光基板包括相对的第一表面和第二表面；第一表面和第二表面均形成有单向透光图案层，第一表面...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司授权不得商用。