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本发明涉及薄膜制备领域，具体地说是一种结构简单紧凑的多功能多控制模式磁控离子镀弧源装置，磁控离子镀弧源装置的靶材底座后面设有由小型直流电机或者交流电机驱动的旋转磁场发生装置，电机驱动固定在电机转轴上的磁轭带动合理分布在磁轭上的永磁体转动，不...
该专利属于中国科学院金属研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院金属研究所授权不得商用。

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