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电容器沉积装置及使用该电容器沉积装置的介电薄膜的沉积方法制造方法及图纸
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下载电容器沉积装置及使用该电容器沉积装置的介电薄膜的沉积方法的技术资料
文档序号:17961407
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公开了一种制造具有高介电常数的电容器的方法,该方法防止介电层的表面由于真空破坏而劣化,并且防止由于半导体基板被加载和卸载时产生的物理应力导致介电层的质量劣化。...
该专利属于周星工程股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过周星工程股份有限公司授权不得商用。
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