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一种低应力WB2多层硬质涂层的制备方法，先基片预处理，再溅射清洗靶材最后沉积多层WB2涂层，沉积多层WB2涂层时先在真空室中通入高纯度压强为0.2～0.6Pa的Ar，沉积一层压应力WB2膜层；然后调控Ar压强为0.7～1.0Pa，沉积一层拉...
该专利属于西安石油大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安石油大学授权不得商用。

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