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半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:17915951
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本发明的示例性实施例的半导体器件包括:电流施加区;和布置在电流施加区的端部的端接区。所述端接区包括:布置在n+型碳化硅衬底的第一表面上的n‑型层;布置在n‑型层中的p型端接结构;和布置在p型端接结构上,以致与p型端接结构重叠的下栅极流道。...
该专利属于现代自动车株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过现代自动车株式会社授权不得商用。
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