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本实用新型公开一种硅胶数码刻字膜，其涉及的热转印商标技术领域，所述硅胶数码刻字膜包括底膜层、硅胶离型剂层、硅胶层、硅胶处理剂层以及热熔胶层，所述硅胶离型剂层位于底膜层和硅胶层的一侧之间，所述硅胶层另一侧则通过硅胶处理剂层而与热熔胶层相连。与...
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