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本实用新型公开了一种带清理机构的平面砖压制模具。本实用新型包括上模、下模、成型模框和清理机构；所述上模包括上模座，上模座的下端面设置有多个规则排列的上模芯；所述下模包括下模座，下模座上设置有与上模芯相对设置的多个下模芯，下模芯的底部设置有顶...
该专利属于天津贝利泰陶瓷有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津贝利泰陶瓷有限公司授权不得商用。

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