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本实用新型公开了一种振动上料装置，包括振动盘和安装在振动盘底部的振动机构，振动盘的内壁上设置有2～4条上料通道，上料通道为螺旋上升状，螺旋上升倾角为5°～15°，相邻上料通道间为相互独立且间隔均匀，上料通道的入口均匀分布在振动盘底部边沿，上...
该专利属于北京盛磁科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京盛磁科技有限公司授权不得商用。

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