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本发明公开了一种氧化钇掺杂氧化镧坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法，氧化钇掺杂氧化镧坩埚的成分为每１０ｇ的氧化钇Ｙ↓［２］Ｏ↓［３］中掺杂有０．２～１．２ｇ的氧化镧。在用于热压烧结的氧化钇Ｙ↓［２］Ｏ↓［３］粒径为０．０１～２０μｍ，氧化镧Ｌ...
该专利属于北京航空航天大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京航空航天大学授权不得商用。

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