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本发明提供了曝光设备和曝光方法，所述曝光设备包括控制系统、光源系统、照明系统及投影物镜，所述照明系统设有多套，每套所述照明系统均包括可变衰减器和支路能量探测器，各照明系统的支路能量探测器探测对应支路的照度并反馈给所述控制系统，所述控制系统控...
该专利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备（集团）股份有限公司授权不得商用。

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