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本发明公开了一种薄膜晶体管、阵列基板及阵列基板的制备方法,该薄膜晶体管包括:第一半导体层;第二半导体层,分别覆盖在所述第一半导体层的两端;其中,所述第一半导体层的致密度大于所述第二半导体层的致密度。通过上述结构的薄膜晶体管,能够提高薄膜晶体...该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种薄膜晶体管、阵列基板及阵列基板的制备方法,该薄膜晶体管包括:第一半导体层;第二半导体层,分别覆盖在所述第一半导体层的两端;其中,所述第一半导体层的致密度大于所述第二半导体层的致密度。通过上述结构的薄膜晶体管,能够提高薄膜晶体...