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本发明的衬底处理设备包括：腔室，具有衬底处理空间；及线圈部分，具有多个电感线圈，其的每一者具有缠绕成包围腔室的外圆周的形状且排列在腔室的延伸方向上，多个电感线圈包括：边缘型电感线圈，在腔室中形成在与衬底的边缘区域对应的区域处的密度高于在与衬...
该专利属于AP系统股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过AP系统股份有限公司授权不得商用。

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