专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
重庆大学
>
两类3‑位含吡啶取代基团芳炔前体及其制备制造技术
>技术资料下载
下载两类3‑位含吡啶取代基团芳炔前体及其制备的技术资料
文档序号:17767572
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了两类3‑位含吡啶取代基团的芳炔前体及其制备。该3‑位含吡啶取代基团的芳炔前体的合成方法包括非传统1,2‑二芳炔前体的合成、利用非传统1,2‑二芳炔前体与吡啶/V‑氧化物一锅煮进行反应,高效地制备了3‑位含吡啶取代基团芳炔前体A,...
该专利属于重庆大学所有,仅供学习研究参考,未经过重庆大学授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。