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美国联合碳化硅公司
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具有集成MOS二极管的碳化硅MOSFET制造技术
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文档序号:17746687
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采用栅极‑源极短路模式的单片集成MOS沟道作为功率MOSFET的第三象限传导路径的二极管。MOS二极管和MOSFET可以构造成包括分裂单元和沟槽的各种配置。器件可以由碳化硅、氮化镓、氮化铝、氮化铝镓、金刚石或类似的半导体形成。MOS二极管的...
该专利属于美国联合碳化硅公司所有,仅供学习研究参考,未经过美国联合碳化硅公司授权不得商用。
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