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本发明提供了一种通过磁控溅射直流共溅射制备Ni‑Co‑Mn‑Ti合金薄膜的方法，其步骤为：(一)选取靶材：按化学计量比选取NiMnTi合金靶和Co单质靶；(二)共溅射：1.基底加热：将选好的合金靶和单质靶放在溅射室的溅射靶之上固定好，关闭腔...
该专利属于江西理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过江西理工大学授权不得商用。

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