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本发明公开了一种具有渐变孔隙率的二氧化硅纳米多孔膜及其制备方法。纳米多孔膜的膜厚为100‑500nm，其由3层以上的不同球形孔径的多孔膜组成，其中，底层孔径为1‑3nm、表层孔径为5‑8nm，孔边缘间距自下而上为10‑2nm，孔隙率自下而上...
该专利属于上海西源新能源技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海西源新能源技术有限公司授权不得商用。

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