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本发明涉及一种石墨烯的制备方法，与现有技术的方法相比，一方面，简化石墨烯层的图案化过程，无须对石墨烯层进行刻蚀图案化，减少对石墨烯层的损伤；另一方面，石墨烯层的转移更高效且转移质量更好，降低石墨烯转移次数与二次污染的可能性；另外，基板可以选...
该专利属于上海和辉光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海和辉光电有限公司授权不得商用。

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