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用于基材的真空涂覆的盒式涂覆装置(10)包括包含蒸发源(14)和基材保持件(16)的真空腔室(12)，基材保持件形成面对蒸发源且可绕轴线转动的圆顶件。遮掩组合件(20)位于其间，用于相对于蒸发源部分遮蔽基材保持件上的基材。遮掩组合件包括在真...
该专利属于萨特隆股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过萨特隆股份公司授权不得商用。

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