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本发明公开了一种等离子体清洗陶瓷膜装置，包括清洗壳体、等离子体发生器、清洗底座、清洗柜门和行走轮，所述清洗壳体内部设置有清洗室，所述清洗室两侧壁安装有等离子体发生器，所述等离子体发生器之间形成有等离子电场，所述清洗室底部安装有清洗底座，所述...
该专利属于谢宏林所有，仅供学习研究参考，未经过谢宏林授权不得商用。

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