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文中披露了在其３’末端区域含有某些修饰核碱基的引物及其各种用法，所述引物能减少扩增反应期间形成的引物－二聚体。...
该专利属于阿普里拉股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过阿普里拉股份有限公司授权不得商用。

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