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本实用新型属于一种激光池装置，具体公开一种用于激光制样‑质谱氧同位素组成分析的激光池装置，该装置包括激光窗上法兰、激光窗、激光腔上腔体、第一真空管路、第二真空管路、样品池、激光腔下腔体和激光池底座，激光腔上腔体上方设有激光窗上法兰，激光腔上...
该专利属于核工业北京地质研究院所有，仅供学习研究参考，未经过核工业北京地质研究院授权不得商用。

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