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本发明公开了一种制备导电薄膜的方法，属于导电薄膜生产技术领域。所述方法包括以下步骤一种制备导电薄膜的方法，包括以下步骤：A．沉积金属铜层：在洁净、干燥的陶瓷板上沉积5‑10nm的金属铜层；B．沉积石墨烯层：采用CVD法沉积石墨烯薄膜层，所述...
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