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本实用新型涉及水处理设备设计技术领域，公开了一种紫外线消毒设备清洗装置，清洗架内部开设多个清洗孔，清洗孔内壁装有清洗胶圈，使紫外线灯管贯穿过清洗孔，在推动装置的带动下，清洗架与紫外线灯管相对滑动。清洗架有多个，多个清洗架并列设置。清洗胶圈为...
该专利属于四川省水立方环保工程有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过四川省水立方环保工程有限公司授权不得商用。

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