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本发明涉及光催化领域，具体为一种选择性刻蚀铁电基光催化材料以定向构筑异质结构的方法。利用半导体铁电材料(钛酸钡、钛酸铅、铁酸铋等)中的铁电场诱导表面带电属性的差异，导致带负电性的酸根离子优先选择性地吸附在带正电荷表面，实现对铁电材料表面选择...
该专利属于中国科学院金属研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院金属研究所授权不得商用。

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