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一种三重图形化的方法，包括：提供基底，基底表面形成有掩模层；提供目标图形，定义出基底上待图形化的区域，目标图形包括沿第一方向延伸的第一边界和第二边界、以及沿第二方向延伸的第三边界和第四边界；对掩模层进行第一图形化处理，去除第一部分掩模层，第...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。