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本发明提供了一种镀膜装置、方法以及PECVD设备，包括：镀膜腔室及位于所述镀膜腔室内用于承载和加热待镀膜基板的载板；所述载板的承载表面朝向所述镀膜腔室的进气口，所述载板的两端分别靠近所述镀膜腔室的出气口；所述载板中间设置有旋转轴，所述载板可...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司授权不得商用。