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江苏点晶光电科技有限公司
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Si基垂直腔面发射芯片制造技术
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文档序号:17395756
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本发明公开了一种Si基垂直腔面发射芯片,结构包括从下到上排列的n型电极,衬底,缓冲层,位于衬底上的下分布式布拉格反射镜,位于下分布式布拉格反射镜上的有源区,位于有源区上的上分布式布拉格反射镜,位于上分布式布拉格反射镜上的p型电极以及位于圆柱...
该专利属于江苏点晶光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过江苏点晶光电科技有限公司授权不得商用。
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