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一种在铜膜修饰石墨烯基底上制备金属酞菁单晶薄膜的方法技术
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文档序号:17380123
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一种在铜膜修饰石墨烯基底上制备金属酞菁单晶薄膜的方法,属于石墨烯技术领域。本发明可用于制备高性能有机场效应器件。在有机场效应器件中,石墨烯常用作电极涂层,利用石墨烯的高电导率及其对有机分子薄膜的结晶诱导作用,提高器件中载流子的注入和传输效率...
该专利属于绍兴文理学院所有,仅供学习研究参考,未经过绍兴文理学院授权不得商用。
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