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GaN基新型结构激光器及其制作方法技术
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文档序号:17365501
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本发明公开了一种GaN基新型结构激光器及其制作方法,所述GaN基新型结构激光器从下至上依次包括:衬底、下限制层、下波导层、有源区层、未掺杂的AlInGaN极化缓解层、电子阻挡层、上波导层、上限制层、欧姆接触层,以及位于衬底的下表面的n型欧姆...
该专利属于华南师范大学所有,仅供学习研究参考,未经过华南师范大学授权不得商用。
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