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本发明公开了一种竖向叠片结构超长磁屏蔽结构及其制造工艺，该磁屏蔽结构包括若干个沿水平方向叠加在一起的硅钢片，其中，单个硅钢片在竖直方向上放置，若干个硅钢片的背面间隔焊接有若干个扁钢，若干个硅钢片的两端均设置有短护框，两侧均设置有长护框，短护...
该专利属于中国西电电气股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中国西电电气股份有限公司授权不得商用。

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