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本发明提供一种外延设备、设备制作方法及外延方法，所述外延设备包括石英腔室、设于所述石英腔室内的用于支撑晶圆的支撑平台及分别设于所述石英腔室一对相对侧面的反应气体进气口及废气排气口；其中：所述反应气体进气口所在石英腔室侧面上还设有两个氢气进气...
该专利属于上海新昇半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海新昇半导体科技有限公司授权不得商用。

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