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本实用新型公开一种光学抛光装置及系统，涉及高精度抛光技术领域，以解决现有的抛光装置无法适用于多种不同产品抛光作业的技术问题。本实用新型所述的光学抛光装置，包括：研磨盘机构，研磨盘机构包括上下对应设置且可更换的上、下盘结构；上盘结构包括：上盘...
该专利属于大连桑姆泰克工业部件有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大连桑姆泰克工业部件有限公司授权不得商用。

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