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提供一种形成化学机械抛光垫抛光层的方法，其包括：提供具有基底的模具，所述基底具有凹槽图案的阴纹；提供聚侧(P)液体组分；提供异侧(I)液体组分；提供加压气体；提供轴向混合装置；将所述聚侧(P)液体组分、所述异侧(I)液体组分和所述加压气体引...该专利属于陶氏环球技术有限责任公司;罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过陶氏环球技术有限责任公司;罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司授权不得商用。