下载孔隙度受控的抛光垫形成法的技术资料

文档序号:17289902

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本发明为一种制造适合于对半导体、光学和磁性衬底中的至少一种进行平坦化的抛光垫的方法。所述方法包括将液体聚合物液滴紧靠衬底涂覆以形成多个孔隙。液体聚合物含有非离子表面活性剂和离子表面活性剂,所述非离子表面活性剂具有足以促进液体聚合物内孔隙生长...
该专利属于陶氏环球技术有限责任公司;罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过陶氏环球技术有限责任公司;罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司授权不得商用。

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