温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液，包含研磨颗粒、唑类化合物、有机/无机酸、氧化剂和水，还包含含硅有机化合物及聚酰胺胺超支化聚合物PAMAM。本发明提供的抛光液实现了在酸性抛光环境下，阻挡层抛光过程中，可以满足对各种材料的抛光速...
该专利属于安集微电子科技（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子科技（上海）股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。