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一种低温烧结耐酸碱多孔碳化硅陶瓷膜的制备方法技术
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文档序号:17207716
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本发明涉及多孔陶瓷材料及膜分离技术领域,具体是一种低温烧结耐酸碱多孔碳化硅陶瓷膜及其制备的方法。本发明依次包括以下步骤:(1)支撑体制作、(2)过渡层处理、(3)过滤层处理、(4)膜烧结过程;本发明具有烧结温度低、生产能耗低、工艺方法简单、...
该专利属于浙江理工大学所有,仅供学习研究参考,未经过浙江理工大学授权不得商用。
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