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本发明公开了一种反应溅射沉积速率稳定控制系统，包括控制器、溅射电源、气体流量压电阀、镀膜室和多路传感反馈电路；所述控制器，通过控制信号控制溅射电源输出电流电压和工作气体、反应气体流量压电阀；多路传感反馈电路，包括等离子体光谱反馈电路、气体分...
该专利属于广州市光机电技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过广州市光机电技术研究院授权不得商用。

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