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在漂移体积中具有p层的n沟道双极型功率半导体器件制造技术
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下载在漂移体积中具有p层的n沟道双极型功率半导体器件的技术资料
文档序号:17102246
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本发明涉及在漂移体积中具有p层的n沟道双极型功率半导体器件。一种功率半导体器件,具有半导体本体,所述半导体本体被配置为在第一负载端子与第二负载端子之间传导负载电流,包括:源极区,其具有第一导电类型的掺杂剂并被电连接到所述第一负载端子;半导体...
该专利属于英飞凌科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过英飞凌科技股份有限公司授权不得商用。
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