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本发明公开了一种基于聚碳酸酯为基底的光致聚合全息材料的制备方法，属于光全息存储技术领域；该材料具有良好的光学质量，材料厚度可达0.5mm‑2mm，信息存储容量大，灵敏度高，制备工艺简单，成本低廉，收缩率低，不易变形，不易受环境湿度、温度影响...
该专利属于沈阳航空航天大学所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳航空航天大学授权不得商用。

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