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本实用新型涉及细纱机设备领域，具体涉及一种细纱机下皮圈，包括皮圈本体，所述皮圈本体外层设有防静电层，内层设有聚氨酯防滑层。本实用新型结构简单、设计巧妙，解决了传统的细纱机下皮圈双面平面，纤维在形成设计支数时，由于下皮圈外层表面存在静电、外表...
该专利属于刘学军所有，仅供学习研究参考，未经过刘学军授权不得商用。

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