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本发明提供一种岩彩基板及其底涂工艺,其中,所述底涂工艺包括如下步骤:S1、提供需要进行底涂的岩彩基板;S2、第一次表面抛光;S3、第二次表面抛光;S4、uv漆渗透处理;S5、第一次干燥;S6、第二次干燥;S7、水性加固处理;S8、第一次底涂...该专利属于苏州普莱特环保新材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州普莱特环保新材料有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种岩彩基板及其底涂工艺,其中,所述底涂工艺包括如下步骤:S1、提供需要进行底涂的岩彩基板;S2、第一次表面抛光;S3、第二次表面抛光;S4、uv漆渗透处理;S5、第一次干燥;S6、第二次干燥;S7、水性加固处理;S8、第一次底涂...