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本申请公开了一种低散射背底的中子吸收材料及其制备方法和应用。本申请的低散射背底的中子吸收材料，其主要成份包括碳化硼粉和聚四氟乙烯。本申请的中子吸收材料，在碳化硼粉中添加聚四氟乙烯，一方面，在保障中子吸收性能的前提下，提高了中子吸收材料致密化...
该专利属于东莞中子科学中心所有，仅供学习研究参考，未经过东莞中子科学中心授权不得商用。

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