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本发明涉及一种纳米去污膏及其制备方法。该纳米去污膏由纳米碳酸钙、表面活性剂、无机助洗剂、粘合剂、增稠剂、钙镁离子螯合剂和去离子水制成。其生产方法为：先将表面活性剂放入反应釜中，然后加温至５５℃－７０℃，搅拌１－２小时，加入无机助洗剂、粘合剂...
该专利属于陈新;郭清君;巴甦所有，仅供学习研究参考，未经过陈新;郭清君;巴甦授权不得商用。

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