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本实用新型公开了一种基板蚀刻线退膜段的膜渣处理装置,包括位于退膜段的退膜滚筒上的膜渣出口,位于膜渣出口下方的空心接膜渣槽和位于接膜渣槽的药水槽;接膜渣槽设有若干个,接膜渣槽上设有漏斗,漏斗位于接膜渣槽顶部且其上套有耐腐蚀编织袋;药水槽上设有...该专利属于景旺电子科技(龙川)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过景旺电子科技(龙川)有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种基板蚀刻线退膜段的膜渣处理装置,包括位于退膜段的退膜滚筒上的膜渣出口,位于膜渣出口下方的空心接膜渣槽和位于接膜渣槽的药水槽;接膜渣槽设有若干个,接膜渣槽上设有漏斗,漏斗位于接膜渣槽顶部且其上套有耐腐蚀编织袋;药水槽上设有...